河南实验室净化工程建立过程在东鑫净化的统筹布置下停止的，统一各方意见，在设计、施工过程中处理谐和由于各自证据，对建立过程形成隐患、返工等弊端，保证净化实验室的紧密，使其长期低能耗、低本钱运转。模块化：在为实验室用户设计实验室净化工程处理计划时，采用产业化、规范化的运营理念，归结整理多年的净化工程项目，是将复杂的实验室净化工程项目模块化，以便依据用户的不同状况、特性和需求做出愈加优化的组合。在提供的计划中，采用了合适当地状况的方式，将建筑物装修、配电、空调、消防全部规范化的计划，制定了有针对性的计划设计。 完好性：河南实验室净化工程能够为客户提供一站式的“传送钥匙”工程，降低采购本钱，减少客户的大量努力、物力和人力投入，客户不用思索过多的技术细节。经过整个实验室净化工程处理计划，为客户提供统一接口，整合一切设备供给商、工程承包商、效劳供给商，经过系统的设备配置，确保整个实验室的容量和设备之间的谐和，满足当前和将来的开展需求。此外，还能够为用户提供合同效劳，保证用户取得长期或终身的效劳维护，从而保证家具投资的宏大利益。

干净室中的温湿度控制 干净空间的温湿度主要是依据工艺请求来肯定，但在满足工艺请求的条件下，应思索到人的温馨度感。随着空气干净度请求的进步，呈现了工艺对温湿度的请求也越来越严的趋向。详细工艺对温度的请求以后还要罗列，但作为总的准绳看，由于加工精度越来越精密，所以对温度动摇范围的请求越来越小。例如在大范围集成电路消费的光刻曝光工艺中，作为掩膜板资料的玻璃与硅片的热收缩系数的差请求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就惹起了0.24um线性收缩，所以必需有±0.1度的恒温，同时请求湿度值普通较低，由于人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超越25度，湿渡过高产生的问题更多。相对湿度超越55%时，冷却水管壁上会结露，假如发作在精细安装或电路中，就会惹起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将经过空气中的水分子把硅片外表粘着的灰尘化学吸附在外表难以肃清。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于外表，同时大量半导体器件容易发作击穿。关于硅片消费最佳湿度范围为35—45%。

实验室净化分类 乱流式 空气由空调箱经风管与干净室内之空气过滤器(HEPA) 进入干净室，并由干净室两侧隔间墙板或高架地板回风。气流非直线型运动而呈不规则之乱流或涡流状态。此型式适用于干净室等级1,000-100,000级。 优点：结构简单、系统建形成本低，干净室的扩大比拟容易，在某些特殊用处场所，可并用无尘工作台，进步干净室等级。 缺陷：乱流形成的微尘粒子于室内空间飘浮不易排出，易污染制程产品。另外若系统中止运转再激活，欲达需求之干净度，常常须耗时相当长一段时间